硅粉高速研磨分散機(jī),硅粉高剪切研磨分散機(jī),二氧化硅/硅粉混合分散機(jī),硅微粉濕法研磨分散機(jī),硅粉高速研磨機(jī),14000轉(zhuǎn)高速研磨分散機(jī),研磨分散機(jī)是研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
硅粉(Microsilica 或 Silica Fume),也叫微硅粉,學(xué)名"硅灰",又叫硅灰,是工業(yè)電爐在高溫熔煉工業(yè)硅及硅鐵的過(guò)程中,隨廢氣逸出的煙塵經(jīng)特殊的捕集裝置收集處理而成。
從硅微粉與微硅粉性能或作用上硅業(yè)在線是這么劃分的:硅微粉概括的說(shuō)具備耐溫性好、耐酸堿腐蝕、導(dǎo)熱性差、高絕緣、低膨脹、化學(xué)性能穩(wěn)定、硬度大等優(yōu)良的性能。根據(jù)其用途硅微粉分為以下幾類:普通硅微粉、電工級(jí)硅微粉、電子級(jí)硅微粉系列、熔融石英硅微粉、超細(xì)石英硅微粉、.納米硅微粉。
各種硅微粉的具體用途如下: 1.通硅微粉,主要用途用于環(huán)氧樹脂澆注料、灌封料、電焊條保護(hù)層、金屬鑄造、陶瓷、硅橡膠、涂料及其它化工行業(yè)。
2.電工級(jí)硅微粉,主要用途用于普通電器件的絕緣澆注,高壓電器的絕緣澆注,APG工藝注射料,環(huán)氧灌封料,高檔陶瓷釉料等。
3.電子級(jí)硅微粉,主要用途主要用于集成電路、電子元件的塑封料和包裝料。
4.熔融石英微粉,熔融石英微粉(WG)所用原料是天然石英經(jīng)經(jīng)高溫熔煉,冷卻后的非晶態(tài)SiO2,經(jīng)多道工藝加工而成的微粉。該產(chǎn)品純度高,具有熱膨脹系數(shù)小,內(nèi)應(yīng)力低,高耐濕性,低放射性等優(yōu)良特性。用于大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路用塑封料,環(huán)氧澆注料,灌封料,及其它化工領(lǐng)域。
5.超細(xì)石英微粉,主要用途 主要用于涂料,油漆,工程塑料,粘合劑,奎 橡膠,精密鑄造高級(jí)陶瓷。
6.納米SiOx,納米SiOx作為納米材料中的重要一員,主要應(yīng)用于電子封裝材料、高分子復(fù)合材料、塑料、涂料、橡膠、顏料、陶瓷、膠粘劑、玻璃鋼、藥物載體、化妝品及抗菌材料等領(lǐng)域,已經(jīng)成為傳統(tǒng)產(chǎn)品的提檔升級(jí)換代的新型材料。
為了達(dá)到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機(jī)固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過(guò)皮帶加速達(dá)到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強(qiáng)度夠不夠?機(jī)械密封會(huì)不會(huì)因?yàn)楫a(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會(huì)不會(huì)偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會(huì)發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點(diǎn),也應(yīng)該是廣大客戶在選型時(shí)應(yīng)該重視的幾個(gè)方面。
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IKN研磨機(jī)與國(guó)內(nèi)研磨機(jī)比較:
轉(zhuǎn)速和剪切力:
國(guó)內(nèi)研磨機(jī),3000/4700 RPM直聯(lián)電機(jī)的轉(zhuǎn)速?zèng)Q定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機(jī),9000/14000RPM通過(guò)皮帶加速
線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素,相當(dāng)于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造:
國(guó)內(nèi)研磨機(jī),臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng),容易造成軸的偏心,運(yùn)轉(zhuǎn)不正常,需要專業(yè)的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機(jī),立式分體結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng),不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
密封:
國(guó)內(nèi)研磨機(jī),填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀
IKN研磨機(jī),雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至之低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn),特殊德國(guó)PDFE軸封,可以運(yùn)行10000小時(shí),可選擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封,在一般的情況下,我們的機(jī)械密封可以之大承受16bar 壓力,根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口之大壓力可以達(dá)到12-13 bar .
產(chǎn)品效果:
國(guó)內(nèi)研磨機(jī),粒徑細(xì)度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機(jī) 可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級(jí)分散乳化粉碎
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到之大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和之終產(chǎn)品的要求。
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